北大微电子学院蔡一茂：高校应优化学科建设支

蔡一茂并指出，高校应面向产业急需的人才进行分层次培养，例如把本科生培养成具有宽广视野、把握前沿技术实践能力的交叉型复合型拔尖人才。与此同时高校要注重产教融合与学科交叉的人才培养。

从EDA目前的发展形势来看，美国在该领域处于绝对垄断地位，同时中国市场在全球占比不足10%。蔡一茂强调，目前我国半导体制造领域受到美国14nm、7nm的禁令，如果后续EDA工具也被加入实体清单，那时再着手发展EDA就为时已晚。所以目前国家层面和学术界、产业方面也是非常支持EDA的国产替代和相关研究。

面对这些挑战，在电路设计方面，学术界和产业界已开始探索高效、智能的EDA方法。另外，对于器件工艺方面，已针对新特性、新器件进行建模方法上的革新。

蔡一茂指出，我国EDA的发展历史是非常曲折缓慢的。从时间节点上来看，1987年巴黎统委会对我国实行禁运，国外EDA工具无法进入中国；1993年打破了封锁，北大王阳元院士担任ICCAD委员会主任，带领团队自主研发初出国产EDA工具熊猫系统。

蔡一茂进一步指出，全球EDA的销售额大概保持一个温和的增长，年复合增长率大概在5-10%之间。在竞争格局上，基本上被Synopsys、Cadence、Siemens、Ansys这前四大厂商垄断。

不过国家已开始重视EDA产业，政府和民间都在不断加大投资。发改委、科技部、国家自然基金委员会以及地方政府都制定了相关计划。统计显示，2009年-2017年，01专项给予了EDA少量支持，8年累计约2亿元，2018-2021年，预计01专项投入将超过10亿元。在民间投资方面，2020年至今中国EDA产业融资资金额超22亿元，达到了历史高峰。

谈及EDA市场国内厂商占有率不足的原因，蔡一茂认为国产EDA与国外大厂相比仍存在较大差距。具体来说，国内EDA企业产品以点工具为主，尚未形成面向先进工艺的全流程EDA。数据显示，国产28nm数字电路EDA全流程覆盖率仅为70%，缺少逻辑综合和逻辑仿真等点工具，国产7nm及以下工艺EDA基本空白。

集微网消息，10月22日，2021年北京微电子国际研讨会暨IC WORLD大会正式召开。大会将持续22-24日三天，大会旨在聚焦产业发展的痛点、堵点和关键点，凝聚全球半导体产业的团体力量，汇集国际国内的行业龙头和企业精英，全面构建具有全球竞争优势的集成电路产业生态高地。

2009年，受到集成电路发展潮流的推动，中国EDA再度启航，开始逐步成立华大九天等国产DEA企业。与此同时，十二五、十三五的科技部和基金委已经开始逐步对项目进行支持。时间来到2019年，国内高校和EDA企业已经得到蓬勃的发展。

回到EDA技术本身来说，蔡一茂指出集成电路的发展对EDA技术提出了新的挑战，芯片复杂化令EDA的规模和设计复杂度增加，需求多样化使得EDA需要满足多场景、多需求和多功能，工艺微型化致使尺寸逼近物理极限，EDA的工艺约束增加。

今（22）日下午，北京大学微纳电子研究院院长，微纳电子学系主任、教授蔡一茂分享了EDA技术的发展以及学术界针对EDA领域的研究现状。

蔡一茂紧接着分析了EDA的重要性，他指出，EDA是集成电路产业的共性基础技术，尤其是现在集成电路制造的复杂度越来越高，如果没有EDA技术的介入，即使有设备有材料可能也做不出来芯片。另外，对美国而言，EDA是代价最小、见效最快的打击手段。

对于高校如何支持EDA产业的发展，蔡一茂认为应该优化学科建设，从而培育优秀的人才输入产业。北大在本科、研究生集成电路专业设置上均进行了升级。同时把研究重点放在数字集成电路设计流程和先进制造工艺的EDA技术、中国自主的EDA行业标准以及前沿方向的探索。

“众所周知，往往在中国取得突破时，美国或者相关国家就会有所动作，1994年巴统取消了对中国的禁运，所以在1994年到2008年中国EDA由于没有受到足够的支持等因素陷入低谷，虽然有一些突破，但在形成产业方面进展非常缓慢。”蔡一茂说到。

蔡一茂表示：“虽然EDA本身的年产值只有100亿美元，但它支撑的IC设备、IC制造到整个垂直链的电子产业和数字经济的产值非常高。”

（校对/木棉）

文章来源：《微电子学与计算机》 网址: http://www.wdzxyjsjzz.cn/zonghexinwen/2022/0609/647.html